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產(chǎn)品型號: GVH198 / GVH298 / GV154
所屬分類:
產(chǎn)品時間:2024-09-07
簡要描述:日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境(例如超高真空或氣流)中的樣品,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。?可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154
說明
只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境(例如超高真空或氣流)中的樣品,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。?
可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
Thermo Riko的主要型號。
特點
快速升溫 | :大加熱速度為150℃/秒,gao1500℃持續(xù)約1分鐘 | |
清潔加熱 | :無需擔心氣體的產(chǎn)生或熱源的電磁感應 | |
局部供暖 | :僅用紅外光照射樣品,不加熱周圍區(qū)域 | |
可自由連接 | :可以連接到各種系統(tǒng) |
用途
快速加熱和退火樣品,例如Si和SiC | |
在氧化氣氛中形成氧化物晶體,形成薄膜 | |
在氫氣和氮氣中加熱基材 | |
X射線或UV照射過程中樣品的溫度升高 | |
解吸氣體分析儀,XPS,XRD,PLD等的加熱 | |
磁場加熱,非磁場加熱 | |
在加壓氣氛中加熱 | |
通過對樣品施加載荷來加熱 |
日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154
規(guī)格
紅外線感應加熱裝置根據(jù)應用具有以下規(guī)格。 | ||||||||||||
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超高真空型GVH
型號名稱 | GVH198 | GVH298 |
紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 |
gao溫度 | 1200°攝氏度 | 1400°攝氏度 |
加熱面積 | φ20毫米 | |
大加熱速度 | 1℃/秒 | |
大極限真空 | 5×10 -9帕 | |
冷水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
高速加熱型GV / GVL
型號名稱 | GV154 | GV198 | GVL298 | GVL398 |
紅外燈額定值 | 500瓦 | 1千瓦 | 2千瓦 | 3千瓦 |
gao溫度 | 1100°攝氏度 | 1300°攝氏度 | 1500°攝氏度 | 1600°攝氏度 |
加熱面積 | φ14毫米 | φ20毫米 | ||
大加熱速度 | 100°C /秒 | 100-150°C /秒 | ||
大極限真空 | 5×10 -7帕 | |||
冷水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
加壓氣氛類型GVP
型號名稱 | GVP198 | GVP298 |
紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 |
gao溫度 | 1200°攝氏度 | 1300°攝氏度 |
加熱面積 | φ20毫米 | |
大加熱速度 | 100°C /秒 | |
大耐壓 | 1MPa以下 | |
冷水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
快速退火紅外感應加熱系統(tǒng)GV1 / GV2 | |
底部照射型紅外熱處理設(shè)備RTA198 / RTA298 | |
熱脫附氣體分析儀GV2H | |
用于磁場中樣品加熱的紅外引入加熱系統(tǒng)GVL298M / GV154M / GV-M 1 | |
用于X射線形貌的紅外感應加熱裝置 | |
XPS設(shè)備安裝示例 |