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日本thermo紅外線導入加熱裝置

日本thermo紅外線導入加熱裝置

產(chǎn)品型號: GVH198 / GVH298 / GV154

所屬分類:

產(chǎn)品時間:2024-09-07

簡要描述:日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154
只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境(例如超高真空或氣流)中的樣品,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。?
可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。

詳細說明:

日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154

 

說明

只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境(例如超高真空或氣流)中的樣品,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。?
可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
Thermo Riko的主要型號。

特點

快速升溫:大加熱速度為150℃/秒,gao1500℃持續(xù)約1分鐘
清潔加熱:無需擔心氣體的產(chǎn)生或熱源的電磁感應
局部供暖:僅用紅外光照射樣品,不加熱周圍區(qū)域
可自由連接:可以連接到各種系統(tǒng)

用途

快速加熱和退火樣品,例如Si和SiC
在氧化氣氛中形成氧化物晶體,形成薄膜
在氫氣和氮氣中加熱基材
X射線或UV照射過程中樣品的溫度升高
解吸氣體分析儀,XPS,XRD,PLD等的加熱
磁場加熱,非磁場加熱
在加壓氣氛中加熱
通過對樣品施加載荷來加熱

日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154

規(guī)格

紅外線感應加熱裝置根據(jù)應用具有以下規(guī)格。 
  
 超高真空型支持 10 -9 Pa的超高真空。
 高速加熱型 大升溫速度為150℃/秒。
 常溫加熱型 可以對放置在大氣中的樣品進行點加熱。
 加壓氣氛類型 可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
 特殊規(guī)格 通過利用GV系列的功能,我們可以滿足各種要求,例如快速降低溫度,負載加熱和磁場加熱。
 請隨時與我們聯(lián)系。
 符合CE標志 我們還生產(chǎn)符合CE標志的規(guī)格。

超高真空型GVH

型號名稱GVH198GVH298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1200°攝氏度1400°攝氏度
 加熱面積φ20毫米
 大加熱速度1℃/秒
 大極限真空5×10 -9
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘

高速加熱型GV / GVL

型號名稱GV154GV198GVL298GVL398
 紅外燈額定值500瓦1千瓦2千瓦3千瓦
 gao溫度1100°攝氏度1300°攝氏度1500°攝氏度1600°攝氏度
 加熱面積φ14毫米φ20毫米
 大加熱速度100°C /秒100-150°C /秒
 大極限真空5×10 -7
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘

加壓氣氛類型GVP

型號名稱GVP198GVP298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1200°攝氏度1300°攝氏度
 加熱面積 φ20毫米
 大加熱速度 100°C /秒
 大耐壓 1MPa以下
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘
快速退火紅外感應加熱系統(tǒng)GV1 / GV2
底部照射型紅外熱處理設(shè)備RTA198 / RTA298
熱脫附氣體分析儀GV2H
用于磁場中樣品加熱的紅外引入加熱系統(tǒng)GVL298M / GV154M / GV-M 1
用于X射線形貌的紅外感應加熱裝置
XPS設(shè)備安裝示例


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