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研發(fā)用真空置換爐氣氛爐[Mini-BENCH]系列介紹

發(fā)布時間:2023-03-24 點擊量:691

研發(fā)用真空置換爐氣氛爐[Mini-BENCH]系列介紹


超緊湊臺式超高溫實驗反應釜
[Mini-BENCH]系列,是各種研發(fā)應用的理想選擇

真空置換爐

最高2000°C

還原氣氛爐

最高2000°C




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我們根據(jù)您的預算和目的,從最小的配置(加熱器/腔室+控制箱)中為碳爐(真空,惰性氣體)和金屬爐(真空,惰性氣體,還原氣氛)提出最佳系統(tǒng)。
內(nèi)徑Φ80mm坩堝內(nèi)試,Φ1~4英寸晶圓燒成尺寸緊湊,操作方便 溫度快速升至2000°C!
可廣泛應用于SiC和GaN器件的基礎研究,新材料和新材料的開發(fā)以及其他先進的基礎研究和產(chǎn)品開發(fā)部門。

特征

  • 桌面尺寸小,可安裝在實驗室的有限空間內(nèi)。

  • 我們可以根據(jù)要求的燒制條件響應定制設計。

  • 我們將提出適合您預算的設備配置。

【設備配置】

(a) 腔室 + 控制箱 (b) 腔室 + 控制箱+ 真空排氣系統(tǒng)(泵、儀表、閥門、真空管道)

 *訂購時請按照說明進行操作。

?要求的設備配置(上述A或B)、爐膛加熱范圍尺寸、樣品材料、形狀、燒成溫度條件、爐氣氛(真空燒制、氣體類型)。

原理圖規(guī)格

 真空和氣體置換爐(碳爐)還原氣氛爐(金屬爐)
最高工作溫度最高2000°C
加熱器石墨或C/C復合加熱器鎢加熱器
絕緣石墨氈材料鎢屏蔽層,氧化鋁絕緣
真空室SUS304水冷夾套結構,頂部裝載,線性驅(qū)動驅(qū)動開/關(*Φ3,僅4英寸)
使用氛圍在真空或惰性氣體(Ar、N2)中在真空中,惰性氣體(Ar,N2),還原氣體(H2等)
有效加熱范圍Φ1“~ Φ4"(用于晶圓片進料燒制的平面加熱器),或 -Φ80 x 深度 最大100 (H) mm (圓柱形加熱器)
極限真空度1x10-2 帕斯卡(* 用于空爐)
真空泵旋轉(zhuǎn)泵(可選:干泵、高真空泵)
熱電偶包括C型熱電偶
聯(lián)鎖腔室表面溫度、加熱器超溫(可選:冷卻水)
公用設施和冷卻水加熱器額定值最大 6KVA(* 取決于加熱范圍尺寸),冷卻水 3 升/分鐘 0.4Mpa


加熱器

  • 平面加熱絲(用于晶圓):C / C復合材料(或鎢)

  • 圓柱形加熱絲(用于坩堝):C / C復合材料(或鎢)

* 根據(jù)加熱范圍的尺寸,通過組合平面加熱器和圓柱形加熱器,可以在整個坩堝中均勻加熱。


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